| 加工产品种类 : | 高纯靶材 | 主要加工设备 : | 纯靶材 |
| 加工高纯靶材 : | 99.99% | 钨靶材 : | 99.9% |
| 钼靶材 : | 99.999% | 钽靶材 : | 99.9999% |
铜、 钽、 铝、 钛、 钴、 钨、钼、铌等， 高纯金属靶材 半导体生产用 溅射靶材 导体芯片 离子溅射 气相沉积靶材，高纯溅射靶材主要是指纯度为99.9%-99.9999%(3N-6N之间)的金属或非金属靶材，应用于电子元器件制造的物理-气象沉积(PVD)工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集而形成高速的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料。
