低温反应器 CYDC-0510 低温恒温槽  卧式低温循环器

低温恒温槽是自带制冷和加热的恒温源， 可在机内水槽进行恒温实验，或通过软管与其他设备相连，作为恒温源配套使用。泛用于石油、化工、电子仪表、物理、化学、生物工程、医药卫生、生命科学、轻工食品、物性测试及化学分析等研究部门，高等院校，企业质检及生产部门，为用户工作时提供一个热冷受控，温度均匀恒定的场源，对试验样品或生产的产品进行恒定温度试验或测试，也可作为直接加热或制冷和辅助加热或制冷的热源或冷源。
那么低温恒温槽配套使用的黑体炉作用是什么呢？
黑体炉指能吸收外部的 能量，同时能 出自身能量的物体，红外热像仪温度标定与检测设备。
黑体的主要功能是产生温度下的标准 。因此在温度计量中主要用于检定多种 温度计，如光学高温计、红外温度计、红外热像仪等。
随着科学技术的发展，黑体的用途已经不局限于在温度计量方面的应用。在光学方面，已经普遍采用黑体作为标准 源和标准背景光源。在测量领域里，黑体已经用于测量材料的光谱发射、吸收和反射特性。在物理的研究中，黑体已经用作为产生中子源。
不同的用途对黑体的要求是不一样的。在温度计量领域，主要是利用黑体 和温度的对应关系，因此要求黑体的发射率越高越好。要求黑体的 能量按照光谱分布(也就是黑体光谱 能量、也称为单色能量)都符合普朗克定律，这样我们在检定或校准 温度计时，以黑体的温度(或标准 温度计)的示值，来修正 温度计的偏差。因此在选择黑体时通常是选择发射率较高的腔式黑体，同时也要注意黑体腔口直径，温度均匀性和 温度不确定度。
在光学应用中，通常要求 源的 面积较大，但是温度不高，只关注 面的温度均匀性而不关注 能量与温度对应的准确性，因此选择面源黑体较多。但随着科学技术的发展，现在光学应用中也已经用到大口径的高温黑体，但对发射率的要求可以低一点，达到0.98以上即可，像某些腔些黑体的直径可以达到65mm，发射率达到了0.995，也适合做红外的校验。
对于测试和研究中所采用的黑体，是根据需要设计，种类繁多。用于材料光谱发射率测量的黑体，是一个界于腔式黑体和面源黑体之间的黑体，发射面只有Φ10mm。用于 温度仪器中定点校准用的黑体，是一个定温度的 能量很稳定的光源。在系统使用的黑体中小只有小手指大，因此称为指状黑体;为了模拟目标，在一个平面上分隔成多个不同温度区域的面源黑体称为目标模拟器。等等。

低温恒温槽装置为用户提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围 的温度J确控制，应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测 量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用。
低温恒温槽装置精密恒温控制系统，整个量程范围的温度J确可控，噪音低，制冷效率高。其它制冷关键配件也采用全进口配件；制冷系统具备高压保 护器，确保制冷系统安全。低温恒温槽装置采用全封闭磁力泵循环搅拌，温场均匀， 无泄漏，传感器开路、短路保护、双重温度保护等功能，确保仪器安全运行。
低温恒温槽装置可在机内水槽进行恒温实验，或通过软管与其他设备相连，作为恒温源配套使用，为用户工作时提供一个热冷受控，温度均匀恒定的场源，对试验样品或生产的产品进行恒定温度试验或测试，可作为直接加热或制冷和辅助加热或制冷的热源。低温恒温槽装置内置新一代温度控制程序，确保设备运行稳定，全封闭压缩机组制冷，制冷系统具有过热、过电流多重保护装置。
低温恒温槽装置可以把槽内被恒温液体外引，建立恒温场，槽内冷液可外引，冷却机外实验容器，也可在槽内直接进行低温、恒温实验，采用模拟数字PID自动控制系统，温度数字显示，内胆、台面均为全不锈钢，清洁卫生，美观耐腐蚀。低温恒温槽装置为用户提供热冷受控，温度均匀恒定的场源，也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源，整个量程范围的温度J确控制，应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制，半导体扩散炉扩散工艺控制，低温测量和检定，样品保存等浸入式或外循环应用。
低温恒温槽装置精密恒温控制系统，整个量程范围的温度J确可控，噪音低，制冷效率高。其它制冷关键配件也采用全进口配件；制冷系统具备高压保护器，确保制冷系统安全。低温恒温槽装置采用全封闭磁力泵循环搅拌，温场均匀， 无泄漏，传感器开路、短路保护、双重温度保护等功能，确保仪器安全运行。